关心芯片技术的小伙伴们地终端设备，光刻机是生产制造芯片的必需机器设备，尽管全世界有四家光刻机公司，但中高档光刻机销售市场却被ASML独享，其产品研发的DUV光刻机和EUV光刻机基本上攻占了销售市场。

　　据了解，DUV光刻机是深紫外线光刻机，其能够 用以生产制造7nm之上制造的芯片，而EUV光刻机是极紫外线光刻机，用以生产制造7nm下列制造的芯片。

　　在这里二种光刻机中，EUV光刻机可以说是一机难寻，也就是由于沒有EUV光刻机，提升了中国芯片公司提升7nm下列芯片技术的难度系数。

　　国内新一代深紫外线光刻机将要退出

　　全世界四家光刻机公司中，俩家在日本，一家在我国，一家是西班牙的ASML。我国的光刻机产品研发制造企业是上海微电子。

　　数据信息表明，上海微电子产品研发生产制造的光刻机攻占了中国八成之上的销售市场，而其产品研发生产制造的光刻机关键分成4个系列产品。

　　在其中，600系列产品是现阶段可以批量生产最优秀的光刻机，其可以用以生产制造90nm等制造的芯片。但历经近些年的技术提升，上海微电子的光刻机技术立即从90nm提升了28nm。

　　依据上海微电子公布的信息得知，全新升级一代光刻机将要退出批量生产，其归属于深紫光光刻机，曝出精密度可以达到28nm，可以说技术发展非常快。

　　要了解，ASML的DUV光刻机，其曝出精密度也是在这一范围内，在其中，intel根据双操作台发方法，运用DUV光刻机生产制造了10nm芯片。

　　而tsmc则运用数次曝出加工工艺，在仅有DUV光刻机的状况下，批量生产了7nm芯片。

　　换句话说，国内新一代新深紫外线光刻机不但可以用以生产制造28nm制造的芯片，还可以用以生产制造10nm、7nm等制造的芯片。

　　最关键的是，国内28nm芯片生产流水线也将将来1-2年内办厂，不带有英国技术。

　　中国工程院院士却少见发音

　　殊不知就在国内新一代深紫外线光刻机将要退出之时，中国工程院院士吴汉明少见发音，其表明，EUV光刻机结合了全世界顶级科学研究技术，像英国灯源、法国自准直、美国真空泵等。

　　那样的一台是一切一个国家都不太可能进行的，就算是西班牙的ASML，其产品研发生产制造EUV光刻机，也是结合全世界多个国家关键技术，即使如此，每一年也就可以批量生产几十台。

　　应对中国的工程院院士的少见发音，一部分网民觉得，其这般表态发言，是向已经前行的国内光刻机冷言冷语，觉得中国生产商就算是发布了DUV光刻机，也不太可能提升到EUV光刻机。

　　实际上事儿并不是是那样，吴汉明少见发音，是在注重供应链管理的必要性。

　　由于ASML便是运用全世界供应链管理的技术，并将其融合产品研发发布了优秀的EUV光刻机，中国光刻机生产商也应当融合全世界供应链管理技术，才可以加快光刻机技术提升。

　　尽管英国改动标准，严禁有关技术出入口到中国，但中国光刻机生产商应当融合中国供应链管理技术，根据分工协作、生产流水线的方法，加快技术提升，才可以更快完成光刻机技术提升。

　　终究仅根据一家公司的工作能力，是不太可能进行EUV光刻机那样的高精端技术，就算是上海微电子发布了新一代深紫外线光刻机，其也会深陷下一代光刻机陷泥中。

　　相近那样的见解，尹志尧也曾表述过，其表明，要增加对半导体材料集成电路芯片的项目投资幅度，普遍引进人才，并创建合作关系，而孤军奋战，不但会破坏环境，也阻拦技术发展。

　　如同如今的韩和台湾地区，基本上全是集中化全部幅度在半导体材料技术上，才有如今的造就，不然，刘德音也不会发话，再次评定供应链管理比不上大力发展半导体材料优秀人才。